電子級過氧化氫

電子級過氧化氫


產品標準:Q/JX 001-2015

序號 項目 指標
HHP-Ⅰ HHP-Ⅱ HHP-Ⅲ HHP-Ⅳ

1

含量(%)≥

30,35

30,35

30,35

30,35

2

穩定度,%≥

98

98

98

98

3

不揮發物,ppm ≤

30

20

20

10

4

酸度/以H2SO4計,ppm ≤

50

30

30

30

5

總有機碳(TOC),ppm,≤

50

40

20

10

6

pH值

1-4

2-4

2-4

2-4

7

氯化物(Cl),ppb,≤

500

500

200

200

8

硫酸鹽(SO4),ppb,≤

2000

2000

200

200

9

磷酸鹽(PO4),ppb,≤

2000

2000

-

-

10

砷(As),ppb,≤

50

20

5

1

11

鉛(Pb),ppb,≤

50

50

10

1

12

錫(Sn),ppb,≤

50

50

10

1

13

鐵(Fe),ppb,≤

100

100

10

1

14

銅(Cu),ppb,≤

20

20

10

1

15

鎳(Ni),ppb,≤

50

10

10

1

16

錳(Mn),ppb,≤

50

50

10

1

17

鉻(Cr),ppb,≤

20

20

10

1

18

鋁(Al),ppb,≤

500

100

10

1

19

鎘(Cd),ppb,≤

50

50

10

1

20

鈦(Ti),ppb,≤

100

50

10

1

21

鋅(Zn),ppb,≤

100

50

10

1

22

銻(Sb),ppb,≤

20

20

5

1

23

鈉(Na),ppb,≤

500

100

10

1

24

鉀(K),ppb,≤

200

100

10

1

25

鈣(Ca),ppb,≤

200

100

10

1

26

鎂(Mg),ppb,≤

100

50

10

1

27

顆粒數/mL ≤

≥1μm,≤25

≥0.5μm,≤25

≥0.5μm,≤25

≥0.5μm,≤25

超凈高純電子級過氧化氫是微電子行業中一種十分重要的高純試劑,主要用作半導體硅晶片清洗劑,蝕刻劑和光刻膠去除劑,還可用于高級絕緣層制取,電鍍液無機雜質去除,電子行業中銅、銅合金和鎵、鍺的處理,以及太陽能硅晶片的蝕刻和清洗。在處理過程中,試劑中的雜質會對元器件性能產生致命影響,因此,超凈高純過氧化氫對純度的要求非常苛刻。


 包裝

根據客戶需求,產品有聚乙烯桶、噸槽、槽罐車等多種包裝。
注:基于特殊的化學性質,過氧化氫的包裝須使用有排氣孔的容器。

           

 桶裝:200L/桶                                       噸桶:1000 kg/槽                                           槽罐車:30噸/車  

 運輸

本品按氧化劑運輸規則運輸,防止劇烈振搖;
請勿直接用手接觸,操作應配戴塑膠手套;
若不慎接觸或包裝發生泄漏,請用大量水沖凈。

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